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A facile while flexible approach to size-controllable high-purity colloidal gold nanoplates has been presented. By adjusting the quantity of seeds and I− through a seed-mediated, cetyltrimethyl...
Chemical mechanical polishing (CMP) of cpTi (Ti) was carried out using two types of slurries, acidic and basic colloidal silica containing H2O2 up to 3 wt%, to obtain flat and mirror-polished surfaces...

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